Das Falcon ICS 412 Inline-Flussmittel-Beschichtungs-/Wafer-Waschsystem kann bis zu 4 Prozessflüssigkeiten (2 Standardflüssigkeiten - d.h. Flussmittel, Schalenwaschmittel) auf Wafer mit einer Größe von 4 Zoll bis 12 Zoll (300 mm) auftragen. Beim Wechsel von 6" zu 12" Wafergrößen ist kein Werkzeugwechsel erforderlich. Mit einer unbegrenzten Anzahl von Rezeptschritten sind alle Prozessparameter vollständig programmierbar, einschließlich Start, Ende, Sweep und Höhe der Dosierung. Der Servoantrieb des Drehfutters ist mit Geschwindigkeiten von 1 bis 2000 RPM programmierbar. Das Vakuumsystem des Spin Chuck umfasst einen Flüssigkeitsbehälter, der eine Verunreinigung des Vakuumsystems verhindert. Der vollständig servogesteuerte Inline-Bandtransport erfordert keine Einstellungen, kein Roboterteaching und keine Sensoreinstellungen. Der Diagnosemodus der Software ermöglicht die visuelle Wartung aller Eingänge, Ausgänge, Servomotoren und Encoder. Der Engineering-Modus ermöglicht direkte und sofortige Prozessänderungen in Echtzeit. Der Passwortschutz ermöglicht die Nutzung durch mehrere Benutzer.
Zu den Anforderungen an das System gehören Strom, Vakuum, N2 und Wasser. Für die Waschanlagenkonfiguration ist eine hochvolumige Vakuumabsaugung erforderlich. Zu den Optionen gehören Wafer-Waschfunktionen und die Möglichkeit, bis zu 4 Flüssigkeiten zu verarbeiten, wobei 2 Flüssigkeiten Standard sind.
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